真空镀膜是指在高真空的环境下，将材料气化或离子化，使其在基片表面沉积，形成一层具有特定功能（如增透、高反、导电、耐磨、装饰等）的薄膜技术。曼恩斯特真空镀膜系统包含：真空腔室、真空系统、电源与控制系统、镀膜源、进出料系统等，设备广泛应用于光学、半导体、光伏、装饰、面板、Low-E幕墙、硬质涂层等领域。
真空镀膜系统解决方案
卧式点源蒸镀设备卧式点源蒸镀设备适用于光伏、OLED、QLED等领域，可实现有机材料、金属或者无机材料的沉积。设备配置分布式点源，根据材料物理特性，选择性的配置金属或者陶瓷点源，根据产品的幅宽，配置不同的点源数量。膜层沉积配置高精度晶振系统，可精确控制镀层厚度。在镀层均匀性上，采用PID与晶振联动的模式，控制点源蒸发温度以及材料蒸发速率。详细介绍产品优势
1、模块化腔体设计；
2、高精度蒸发源结构设计；
3、定制化生产节拍；
4、根据客户需求，可定制试验、中试、量产机型。
产品参数
磁控溅射连续线真空镀膜设备磁控溅射连续线真空镀膜设备适用于光伏、触控显示、光学、装饰、电磁屏蔽等领域，可实现介质膜、导电膜的沉积。针对钙钛矿光伏领域，设备配置低损伤阴极，可有效保护钙钛矿功能涂层，降低高能电子损伤。针对其他应用领域，通过配置不同的靶位材料，按照工艺顺序，依次布局靶位，可实现最终的产品效果。详细介绍产品优势
1、模块化腔体设计，定制化单面/双面镀膜靶；
2、连续性产品输出，定制化生产节拍；
3、低电子损伤镀层靶位设计；
4、根据客户需求，可定制试验、中试、量产机型。
产品参数
单体磁控真空镀膜设备单体磁控真空镀膜设备适用于硬质涂层、氢能源双极板、装饰等领域，可实现硬质膜、、介质膜、导电膜的沉积。设备配置公自转转架，实现产品全方位镀膜。根据产品镀膜功能性选择需求，通过配置不同靶材，实现反应溅射或者单质溅射，达到最终的产品性能要求。
详细介绍产品优势
1、紧凑型设计，高度集成化设备外观；
2、转架转速可调节，公自转转架，转速可设定；
3、多元镀层沉积技术，可实现单一镀层沉积及多种镀层复合沉积。
产品参数
- 电 话：0755-89369630
- 国内销售热线：400-822-5968
- 涂布模头业务：18126242372（吴小姐）
- 氢能业务联系人：18126216371（王先生）
- 钙钛矿业务联系人：18982168115（唐先生）
- 邮 箱：brand@sz-manst.com
- 地 址：深圳市坪山区金牛东路竹坑第三工业区3号
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